Les cibles en alliage de nickel-niobium sont des cibles de pulvérisation réalisées en faisant fondre du nickel (Ni) et du niobium (Nb) comme éléments principaux dans une certaine proportion. Ils sont principalement utilisés dans les procédés de dépôt physique en phase vapeur (PVD), notamment par pulvérisation magnétron, pour préparer des films minces fonctionnels sur divers substrats.
Méthode de préparation des cibles en alliage de nickel-niobium
1. Préparation des matières premières : sélectionnez des poudres de nickel et de niobium de haute-pureté comme matières premières, en vous assurant que leur pureté répond aux exigences de préparation cibles. Par exemple, la pureté des poudres de nickel et de niobium peut chacune atteindre plus de 99,9 %.
2. Mélange de poudre : pesez avec précision les poudres de nickel et de niobium selon le rapport de composition de l'alliage conçu et mélangez-les soigneusement dans un dispositif de mélange. Pour garantir un mélange uniforme, un broyage à billes peut être utilisé, en contrôlant le temps de broyage approprié et le rapport billes-sur-matériau.
3. Pressage : Les poudres uniformément mélangées sont placées dans un moule et pressées par pressage isostatique à froid (CIP) ou par pressage isostatique à chaud (HIP) pour produire un flan cible avec une certaine densité et résistance. Le pressage isostatique à froid (CIP) permet un compactage initial de la poudre à une pression relativement basse, tandis que le HIP augmente encore la densité de l'ébauche cible à haute température et haute pression.
4. Frittage : L'ébauche de cible pressée est frittée dans un four sous vide pour éliminer les pores entre les particules de poudre et améliorer la densité et les performances de la cible. La température et la durée de frittage sont des paramètres clés. Les températures de frittage varient généralement de 1 000 degrés à 1 500 degrés et les durées de frittage varient de quelques heures à plusieurs dizaines d'heures. L'optimisation dépend de la composition et de la taille de la cible.
5. Usinage : Après le frittage, la cible nécessite un usinage, tel que le tournage et le meulage, pour obtenir les dimensions et la finition de surface souhaitées.
Applications des cibles en alliage de nickel-nibium
Semi-conducteur : ils peuvent être utilisés par pulvérisation cathodique pour former des couches barrières, des électrodes et des interconnexions. Les films minces en alliage de nickel-nibium empêchent efficacement la diffusion des atomes métalliques, améliorant ainsi les performances et la fiabilité des dispositifs semi-conducteurs, et sont cruciaux pour la fabrication de circuits intégrés.
Technologie d'affichage : dans les écrans plats-comme les OLED et les écrans à cristaux liquides, des cibles en alliage de nickel-nibium peuvent être utilisées pour former des électrodes ou des couches réfléchissantes, contribuant ainsi à améliorer la luminosité de l'écran, la vitesse de réponse et la stabilité des couleurs.
Revêtement optique : ils peuvent être utilisés pour former divers revêtements optiques, tels que des films réfléchissant les infrarouges et des films résistants aux dommages laser-, pour des applications dans des dispositifs optiques de précision, des systèmes laser et des instruments optiques afin de répondre à diverses exigences de performances optiques.
Revêtement-résistant à l'usure et à la corrosion- : en raison de leur excellente résistance à l'usure et à la corrosion, les cibles en alliage de nickel-nibium peuvent être utilisées pour former des films minces résistants à l'usure- et à la corrosion-sur les pièces mécaniques et les surfaces d'outils, améliorant ainsi la durée de vie et les performances des composants. Ils ont de larges perspectives d’application dans des secteurs tels que l’aérospatiale, la construction automobile et l’usinage.
