Cibles de déversement de métal

• Cible de pulvérisation de carbone 4N personnalisable

  Nos cibles de pulvérisation-en carbone 4N de haute pureté sont fabriquées à partir d'un matériau de carbone pur à 99,99 %, présentant de faibles niveaux d'impuretés, ce qui les rend idéales pour...

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• Cibles de pulvérisation de bore personnalisées

  Nous fournissons des cibles de bore denses et de haute pureté-, parfaitement adaptées aux processus de semi-conducteurs et de revêtement. Nous prenons en charge la fabrication sur mesure basée sur...

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• Cible ronde en tungstène 3N5 personnalisée

  Nous proposons-des cibles circulaires en tungstène sur mesure d'une pureté 3N5 (99,95 %). Fabriqués par métallurgie des poudres, ils présentent une microstructure uniforme, une haute densité et...

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• Cible de pulvérisation HF de haute pureté personnalisée

  Nous proposons des cibles de pulvérisation d'hafnium de haute pureté-sur mesure avec une pureté supérieure à 99,9 %, présentant une densité uniforme et une microstructure fine. Spécialement conçus...

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• Tige d'hafnium 3N5 personnalisée

  Tiges d'hafnium 3N5 de haute-pureté, pureté de 99,95 %, qualité nucléaire- ! Résistant aux températures ultra-élevées et à la forte corrosion, le premier choix pour les réacteurs nucléaires, les...

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• Customized 3N Tin Target

  High-purity 3N tin sputtering target + custom copper backplate doubles sputtering efficiency! Seamless bonding prevents detachment, resulting in uniform, impurity-free films – the top choice for...

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• Cible rectangulaire en hafnium 3N5 personnalisable

  Cible d'hafnium 3N5 de haute-pureté, pureté de 99,95 %, dimensions rectangulaires personnalisées précises au micromètre ! Le premier choix pour le revêtement de semi-conducteurs et le revêtement...

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• Cible de pulvérisation de magnésium 4N Mg

  Les cibles de pulvérisation de magnésium 4N sont des matériaux de pulvérisation métallique de haute-pureté avec une pureté supérieure ou égale à 99,99 %. Ils présentent des grains fins et une...

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• Cible de pulvérisation de 99,95 % Hf Hafnium

  Cible de pulvérisation d'hafnium de haute pureté à 99,95 %, cible métallique Hf de qualité aérospatiale-, taille personnalisée, plaque de support en cuivre collé, utilisée pour les films minces...

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• Cible de tube de zirconium

  Les cibles en tube de zirconium sont des tubes en zirconium-à paroi mince, de haute-pureté, qui sont résistants à la corrosion-et aux températures élevées-, produisant un film dense et uniforme...

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• Cible de pulvérisation de béryllium

  Le béryllium est un métal gris acier assez cassant à température ambiante et ses propriétés chimiques ressemblent quelque peu à celles de l'aluminium.

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• Cible de pulvérisation de chrome (Cr)

  La cible de pulvérisation de chrome a les mêmes propriétés que le chrome métallique (Cr). Le chrome est un élément chimique de symbole Cr et de numéro atomique 24, c'est un métal de transition...

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