Matériau de revêtement PVD

• Cible de pulvérisation 4N ZrO2 avec plaque arrière en Cu

  Nos cibles de pulvérisation de dioxyde de zirconium avec plaques de support sont fabriquées à partir d'un matériau de dioxyde de zirconium de haute-pureté, solidement lié à une plaque de support...

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• Cible de pulvérisation ZrC avec plaque arrière en Cu

  Nos cibles de pulvérisation en carbure de zirconium (ZrC) avec plaques de support en cuivre présentent une liaison robuste entre le matériau cible ZrC de haute-pureté et le support en cuivre....

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• Cible de pulvérisation ZrC dopée à 5 at %

  Un dopage précis du carbure de zirconium avec un rapport atomique de 5 % de tantale améliore considérablement la résistance aux températures élevées, aux chocs thermiques et à la corrosion du...

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• Cible de pulvérisation 4N IGZO

  Nos cibles de pulvérisation 4N IGZO offrent des performances de pulvérisation plus stables et plus efficaces. Spécialisés pour les applications d'affichage et de semi-conducteurs haut de gamme,...

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• Cible 4N HfO2 avec plaque arrière en Cu

  La cible de pulvérisation 4N HfO₂ avec support en cuivre utilise un matériau d'oxyde de hafnium d'une pureté de 99,99 %. Intégré à un support en cuivre, il offre une excellente conductivité...

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• 4N HfO2 dopé avec une cible de Ti à 2 %

  La cible de pulvérisation HfO₂ dopée à 2 % de Ti-est fabriquée à l'aide d'un substrat d'oxyde de hafnium de haute-pureté, dopé avec précision à 2 % de titane. Caractérisé par son uniformité de...

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• Cible de pulvérisation 4N HfO2

  Cible de pulvérisation de dioxyde d'hafnium 4N de haute pureté-(pureté à 99,99 %) : adaptée aux applications dans les revêtements optiques, les semi-conducteurs et l'électronique de précision....

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• Cible de pulvérisation de carbone 4N personnalisable

  Nos cibles de pulvérisation-en carbone 4N de haute pureté sont fabriquées à partir d'un matériau de carbone pur à 99,99 %, présentant de faibles niveaux d'impuretés, ce qui les rend idéales pour...

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• Cible de pulvérisation B4C

  Utilisant des matières premières en carbure de bore de haute-pureté, ce produit présente une dureté exceptionnelle et une stabilité thermique robuste, ce qui le rend idéal pour les applications...

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• Cibles de pulvérisation de bore personnalisées

  Nous fournissons des cibles de bore denses et de haute pureté-, parfaitement adaptées aux processus de semi-conducteurs et de revêtement. Nous prenons en charge la fabrication sur mesure basée sur...

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• Cible ronde en tungstène 3N5 personnalisée

  Nous proposons-des cibles circulaires en tungstène sur mesure d'une pureté 3N5 (99,95 %). Fabriqués par métallurgie des poudres, ils présentent une microstructure uniforme, une haute densité et...

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• Cible de pulvérisation HF de haute pureté personnalisée

  Nous proposons des cibles de pulvérisation d'hafnium de haute pureté-sur mesure avec une pureté supérieure à 99,9 %, présentant une densité uniforme et une microstructure fine. Spécialement conçus...

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