Granulés de hafnium (Hf)

L'hafnium, symbole Hf, numéro atomique 72, masse atomique 178,49, est un métal de transition gris argenté brillant. Avec un point de fusion remarquable de 2227 ºC et un point d'ébullition atteignant 4602 ºC, il présente une densité de 13,31 g/cm³. Ce métal essentiellement plastique devient dur et cassant lorsqu'il est contaminé par des impuretés. Stable à l'air, l'hafnium ne noircit qu'en surface lorsqu'il est soumis à une combustion. Curieusement, son filament peut être allumé avec une simple flamme d'allumette. Partageant des propriétés proches du zirconium, l'hafnium ne réagit pas avec l'eau, les acides dilués ou les alcalis forts, mais se dissout facilement dans l'eau régale.
Hf-3N5-COA

La cible d'hafnium présente un niveau de pureté allant jusqu'à 99,95 %, garantissant une faible teneur en gaz et une distribution granulométrique uniforme.

Les cibles en hafnium sont essentielles dans les domaines du dépôt par évaporation physique et de la pulvérisation cathodique magnétron, où elles sont utilisées pour créer une variété de matériaux en couches minces, notamment des oxydes, des nitrures, des siliciures et des métaux. Dans l'industrie des semi-conducteurs, les cibles en hafnium jouent un rôle essentiel dans la production de couches minces de silicium, de nitrure de silicium, d'oxyde d'aluminium et d'oxyde de zirconium, améliorant considérablement la stabilité et les performances des appareils. De plus, dans la fabrication d'écrans, les cibles en hafnium sont essentielles pour la fabrication de matériaux d'électrode transparents tels que l'oxyde d'étain-indium (ITO) et l'oxyde de zinc (ZnO), essentiels pour faire progresser les technologies d'affichage.

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