Cible de pulvérisation de cobalt

Le cobalt est un métal dur et cassant, ressemblant au fer et au nickel en apparence. Sa perméabilité métallique est environ deux tiers inférieure à celle du fer. Le cobalt a tendance à exister sous forme d'un mélange de deux allotropes sur une large plage de températures. La transformation est lente et explique en partie la grande variation des données rapportées sur les propriétés physiques du cobalt.

Point de fusion : 1495 degrés Point d'ébullition : 2927 degrés

Une cible de pulvérisation est un disque d'un matériau de haute pureté utilisé comme source de pulvérisation atomique pour le bombardement par faisceau ionique. Veuillez nous contacter si la taille et/ou la pureté de votre cible de pulvérisation requise ne sont pas répertoriées.

La pulvérisation cathodique est une méthode largement utilisée dans le dépôt de couches minces, utilisant un processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD) où les atomes sont éjectés d'un matériau cible solide en raison du bombardement de la cible par des particules énergétiques.

Dans le cas d'une cible de pulvérisation au cobalt, du cobalt de haute pureté est utilisé comme matériau cible. Le processus commence par la création d'un plasma dans la chambre de pulvérisation, généralement avec du gaz argon. Les ions du plasma sont accélérés vers la cible en cobalt avec suffisamment d'énergie pour déloger les atomes de cobalt de la surface de la cible. Lorsque ces atomes de cobalt sont éjectés, ils traversent la chambre à vide et se déposent sur un substrat, formant un film mince avec les propriétés souhaitées. Les conditions de pulvérisation, y compris la puissance appliquée à la cible, le niveau de vide et la composition du gaz, sont méticuleusement contrôlées pour obtenir les caractéristiques de film requises, telles que l'épaisseur, l'uniformité et la structure cristalline.

Les revêtements en couches minces de cobalt (Co) produits par pulvérisation cathodique sont indispensables dans de nombreux secteurs en raison des propriétés magnétiques, de la résistance à l'usure et de la stabilité chimique du cobalt. Ces films sont principalement utilisés dans l'industrie du stockage de données pour les supports d'enregistrement magnétiques. Ils trouvent également des applications dans l'industrie électronique pour la fabrication de capteurs magnétiques, de composants inductifs et de systèmes microélectromécaniques.

Les cibles de pulvérisation Cobalt Target sont fabriquées à partir de métaux de haute pureté 99,99 % de cobalt

Épaisseur standard 0.1 mm (100µm) Autres épaisseurs disponibles sur demande

Diamètre disponible Ø 20.0 mm, 20.4 mm, 32 mm, 39 mm, 42 mm, 50 mm, 50.8 mm, 54 mm, 57 mm, 60 mm, 63.5 mm, 75 mm, 76 mm.

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