Cible en zirconium

Le zirconium (Zr) est un métal argenté d'une densité de 6,52 g/cm³. Le Zr a une section efficace d'absorption des neutrons minuscule et un point de fusion relativement élevé (1855 degrés ou 3371 degrés F), ce qui fait du zirconium un excellent matériau pour les barres d'énergie nucléaire. L'éponge et les barres de cristal de zirconium sont les matières premières pour fabriquer des cibles de pulvérisation. Bien que l'éponge de Zr soit bon marché et ait une faible pureté, elle contient une teneur élevée en oxygène. Les barres de cristal de zirconium ont un coût et une pureté plus élevés, ce qui en fait des matériaux idéaux pour les cibles de pulvérisation.

Le dépôt de film mince (revêtement) est le processus de formation et de dépôt de revêtements de film mince sur des matériaux de substrat qui peuvent être utilisés pour modifier ou améliorer certains éléments des propriétés du substrat. Il s'agit d'une étape de fabrication importante dans la production de nombreux dispositifs et produits optoélectroniques, à semi-conducteurs et médicaux. La cible de pulvérisation de zirconium est la cible cible la plus couramment utilisée dans le processus de revêtement. Il peut revêtir le substrat d'un revêtement résistant à l'usure, d'un revêtement réfléchissant, d'un revêtement conducteur, d'un revêtement résistant à la corrosion ou d'un revêtement décoratif. Plus la pureté du matériau est élevée, plus l'adhérence, la résistance à l'usure et la durée de vie du revêtement sont élevées et plus l'effet protecteur sur le produit est fort. La cible de pulvérisation de zirconium présente les avantages d'une faible densité, d'une résistance spécifique élevée, d'une résistance à la corrosion, d'une résistance aux hautes températures, d'une résistance à l'usure, d'excellentes performances de traitement, d'une non-toxicité, d'une non-magnétisation, d'une petite section efficace d'absorption des neutrons thermiques, d'une longue durée de vie, etc., et peut être largement utilisée Convient pour le traitement de revêtement de produits électroniques, de lasers à fibre, d'écrans LED, de microscopes, de lasers à semi-conducteurs et d'autres instruments de précision. Si nécessaire, n'hésitez pas à nous contacter par e-mail.

Le Zr et le Hf peuvent tous deux être utilisés dans l'industrie nucléaire. Cependant, ils ont des propriétés différentes en termes de capture de neutrons. Bien qu'ils aient de nombreuses propriétés similaires, ils doivent être séparés par extraction liquide ou distillation de sel fondu. Nous proposons deux qualités de cibles en zirconium de haute pureté : à faible teneur en hafnium (250ppm, soit 0,025 %) et à haute teneur en hafnium.

* Les teneurs en C, N et O ne sont pas disponibles
* Les concentrations d’autres éléments métalliques sont trop faibles pour être déterminées.

Nos cibles de pulvérisation de zirconium sont soigneusement manipulées pour éviter tout dommage pendant le stockage et le transport et préserver la qualité de nos produits dans leur état d'origine.

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