Description des produits
L'implantation ionique est une technologie très importante dans la fabrication de circuits intégrés modernes, qui utilise des implanteurs ioniques pour doper les semi-conducteurs, c'est-à-dire en utilisant des fils de tungstène-thorium comme cathodes pour émettre des électrons afin de bombarder les molécules de gaz contenant des éléments d'impureté spécifiques, ce qui entraîne l'accélération des atomes d'impureté spécifiques ionisés par des champs électrostatiques sur la surface des plaquettes de silicium monocristallin et dans le semi-conducteur, modifiant les propriétés conductrices et formant finalement des structures de transistor. L'injecteur d'ions se compose d'un système de gaz, d'un système de vide, d'un système de moteur, d'un système de contrôle et d'un système de ligne de faisceau.
Le système de ligne de faisceau comprend la source d'ions, l'électrode d'extraction, le spectromètre de masse, l'accélérateur dorsal, le système de neutralisation de charge, le manipulateur de plaquettes et le bloqueur de faisceau. Les dispositifs en tungstène fabriqués à partir de plaques de tungstène épaisses (2 à 45 mm) sont principalement utilisés dans le système de source d'ions des implanteurs d'ions à semi-conducteurs pour confiner et protéger les rayons ionisants, et sont les composants clés du système de source d'ions.
Caractéristiques
La pureté du guide d’ondes en molybdène est supérieure à 99,95 % ;
Sa densité est supérieure à 10,2 g/cm³ ;
Usiné avec précision et avec une excellente rugosité de surface ;
Le guide d'ondes en molybdène présente une forte résistance à l'usure.
Secteur d'application
Industrie des matériaux semi-conducteurs
Industrie du transport maritime
Industrie optique et optoélectronique
Industrie aérospatiale
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