Cible de pulvérisation de vanadium (V)

La cible de pulvérisation au vanadium partage les propriétés de son matériau source. Le vanadium est un élément chimique de symbole V et de numéro atomique 23. C'est un métal de transition dur, gris argenté, ductile et malléable. Le métal élémentaire est rarement trouvé dans la nature, mais une fois isolé artificiellement, la formation d'une couche d'oxyde (passivation) stabilise quelque peu le métal libre contre une oxydation supplémentaire. Le vanadium est électriquement conducteur et thermiquement isolant, et il est plus dur que la plupart des métaux et de l'acier. Il a une bonne résistance à la corrosion et il est stable contre les alcalis et les acides sulfurique et chlorhydrique. Il est oxydé dans l'air à environ 933 K (660 degrés, 1220 degrés F), bien qu'une couche de passivation d'oxyde se forme même à température ambiante.

La cible de pulvérisation de vanadium est produite par la technologie de fusion. L'oxyde de vanadium ayant des propriétés optiques et électriques très spéciales, il peut être utilisé pour les fenêtres intelligentes infrarouges, les dispositifs de commutation électro-optiques et comme matériaux de protection laser et matériaux furtifs. Avec une pureté allant jusqu'à 3N et un traitement de recuit spécial, une granulométrie uniforme ainsi qu'une teneur en gaz plus faible, l'utilisateur final peut obtenir des taux d'érosion constants et un revêtement de film mince hautement pur et homogène pendant le processus PVD.

Cible de pulvérisation NiV7

Cible de pulvérisation CoFeV

Cible de pulvérisation FeV

Cible de pulvérisation VCr

Cible de pulvérisation VTiZr

Cible de pulvérisation V2O5

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