Description des produits
La pulvérisation cathodique est une technologie éprouvée capable de déposer des films minces à partir d'une grande variété de matériaux sur des substrats de formes et de tailles diverses.
Le procédé avec des cibles de pulvérisation est répétable et peut être étendu à partir de petits projets de recherche et développement.
Les cibles peuvent être adaptées aux lots de production impliquant des surfaces de substrat moyennes à grandes. La réaction chimique peut se produire sur la cible
En surface, en vol ou sur le substrat, selon les paramètres du procédé. Les nombreux paramètres rendent le dépôt par pulvérisation cathodique complexe, mais permettent aux experts un large contrôle sur la croissance et la microstructure de la zone.
Applications des cibles de pulvérisation
Les cibles de pulvérisation cathodique sont utilisées pour le dépôt de films. Le dépôt réalisé à l'aide de cibles de pulvérisation cathodique est une méthode de dépôt de films minces par pulvérisation cathodique qui consiste à éroder le matériau d'une source « cible » sur un « substrat » tel qu'une plaquette de silicium.
Les cibles de pulvérisation cathodique pour semi-conducteurs sont utilisées pour graver la cible. La gravure par pulvérisation cathodique est choisie dans les cas où un degré élevé d'anisotropie de gravure est nécessaire et où la sélectivité n'est pas un problème. Les cibles de pulvérisation cathodique sont également utilisées pour l'analyse en éliminant le matériau cible.
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Article: |
Cible de pulvérisation LiCoO2 |
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Pureté: |
99.90% |
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Taille: |
personnalisé |
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Forme: |
rond ou rectangulaire |
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Technologie: |
HP |
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Application: |
Industrie du revêtement PVD |
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Emballage: |
emballage sous vide, carton ou caisse en bois à l'extérieur |
étiquette à chaud: Cible de pulvérisation au cobalt de lithium (licoo2), fournisseurs de cibles de pulvérisation au cobalt de lithium (licoo2) en Chine, usine
