Cible de pulvérisation en tungstène titane (WTi)

Les cibles de pulvérisation en tungstène et titane sont produites par la technologie de la métallurgie des poudres et sont largement utilisées pour les semi-conducteurs et les cellules solaires à couches minces.

Pour les applications de semi-conducteurs, le film mince WTi10wt% est utilisé comme barrière de diffusion et couche d'adhésion, pour séparer les couches de métallisation du semi-conducteur, par exemple pour séparer l'aluminium du silicium ou le cuivre du silicium. Ainsi, la fonction du semi-conducteur dans les micropuces peut être considérablement améliorée.

Pour les cellules solaires à couche mince, le film mince WTi10wt% est également utilisé comme couche barrière pour empêcher les atomes de fer du substrat en acier de diffuser vers le contact arrière en molybdène et le semi-conducteur CIGS. Les cibles en tungstène et titane sont également utilisées pour le revêtement des LED et des outils.

Notre usine peut produire des cibles WTi 90/10wt%, WTi 85/15wt% et des cibles de composition spéciale peuvent être personnalisées, la densité réelle des cibles > 99 %.

Processus de production : fusion, chargement et placage des outils.
1. Pureté : 99,9 % min,
2. Taille : Les dimensions sont produites selon les exigences du client
Application : Il est principalement utilisé dans le revêtement sous vide, le traitement de surface, le revêtement dur, le revêtement de verre de construction, l'affichage à écran plat, le revêtement d'énergie solaire, le revêtement optique et d'autres domaines.

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